Sa industriya ng paggawa ng semiconductor ngayon, ang plasma etcher at turbomolecular pump ay dalawang mahalagang pangunahing teknolohiya.Ang plasma etcher ay isang mahalagang kasangkapan sa paggawa ng mga microelectronic na bahagi, habang ang turbomolecular pump ay idinisenyo para sa mataas na vacuum at mataas na bilis ng pumping.Sa artikulong ito, tinatalakay natin ang papel at kahalagahan ng mga turbomolecular pump sa plasma etchers.
Nilalaman
1. Prinsipyo ng pagtatrabaho ng plasma etching machine
2. Prinsipyo ng pagtatrabaho ng turbomolecular pump
3. Paglalapat ng turbomolecular pump sa plasma etching machine
4. Mga kalamangan at limitasyon ng turbomolecular pump
5. Konklusyon
1. Prinsipyo ng pagtatrabaho ng plasma etching machine:
Ang plasma etcher ay isang tool para sa pagproseso ng mga materyales sa pamamagitan ng paggamit ng plasma sa isang vacuum chamber.Ang plasma ay isang koleksyon ng mga sisingilin na particle na ginawa ng gas ionization.Ang density at direksyon ng paggalaw ng plasma ay maaaring kontrolin ng mga high-frequency na electric o magnetic field.Sa panahon ng pag-ukit ng plasma, tinatamaan ng plasma ang ibabaw ng gumaganang materyal at inaalis ito o winawasak, na lumilikha ng nais na istraktura.
Gayunpaman, ang isang malaking halaga ng maubos na gas ay nabuo sa panahon ng pag-ukit ng plasma.Kasama sa mga tambutso na ito ang mga gumaganang materyales at mga dumi sa gas, atbp., na kailangang ilabas sa pamamagitan ng vacuum system.Samakatuwid, ang plasma etching machine ay nangangailangan ng mahusay na vacuum system upang matiyak ang katatagan at katumpakan ng proseso ng pag-ukit.
2. Prinsipyo ng pagtatrabaho ng turbomolecular pump:
Ang mga turbomolecular pump ay isa sa mga pinakakaraniwang ginagamit na high pumping speed pump sa mga vacuum system.Gumagana ito sa pamamagitan ng pag-ikot ng isang set ng mga high-speed rotating impeller upang i-pump ang gas palabas ng vacuum chamber at ilabas ang gas sa atmospera.Sa isang turbomolecular pump, ang gas ay unang pumapasok sa isang backing pump kung saan ito ay na-compress sa isang high-pressure na rehiyon bago ipadala sa turbomolecular pump.
Sa isang turbomolecular pump, ang gas ay pumped sa pamamagitan ng isang umiikot na impeller, habang sa isang molecular pump ang gas ay pinaghiwa-hiwalay sa mas maliliit na molecule.Ang mga turbomolecular pump ay maaaring magbigay ng mataas na vacuum, at ang kanilang pumping speed ay maaaring umabot sa 500~6000 L/s.Para sa mga plasma etching machine na nangangailangan ng mataas na vacuum, ang turbomolecular pump ay isang kailangang-kailangan na bahagi.
3. Paglalapat ng turbomolecular pump sa plasma etching machine:
Ang mga turbomolecular pump ay malawakang ginagamit sa mga plasma etching machine.Sa sistema ng vacuum ng isang plasma etching machine, ang turbomolecular pump ay karaniwang ginagamit bilang pangunahing pump upang makatulong na makamit ang mataas na vacuum.Kapag tumama ang plasma sa ibabaw, gumagawa ito ng malaking halaga ng maubos na gas, kabilang ang mga natitirang hilaw na materyales at mga produktong kemikal na reaksyon.Ang mga maubos na gas na ito ay kailangang ibomba palabas ng vacuum chamber nang mabilis at mahusay upang matiyak ang katatagan at pagiging maaasahan ng proseso ng pag-ukit ng plasma.
Ang mataas na bilis ng pumping at mataas na vacuum ng mga turbomolecular na bomba ay ginagawa silang mainam na mga bomba.Sa isang plasma etcher, ang turbomolecular pump ay karaniwang inilalagay sa isang hiwalay na yunit ng bomba para sa madaling kontrol ng vacuum at presyon.Kasabay nito, upang maprotektahan ang turbomolecular pump, kinakailangan na mag-install ng isang layer ng mechanical pump at isang pressure reducing valve sa harap ng turbomolecular pump upang maiwasan ang labis na presyon at pinsala sa turbomolecular pump.
4. Mga kalamangan at limitasyon ng turbomolecular pump:
Ang mga turbomolecular pump ay may maraming mga pakinabang, tulad ng mataas na bilis ng pumping, mataas na vacuum, mababang ingay, at mataas na pagiging maaasahan.Ang mataas na bilis ng pumping ng turbomolecular pump ay maaaring tumaas ang vacuum degree, at sa parehong oras ay maaaring mabawasan ang pumping oras, at sa gayon ay tumataas ang produksyon na kahusayan.Ang mababang ingay at mataas na pagiging maaasahan ng turbomolecular pump ay isa rin sa mga pakinabang nito, na nangangahulugan na ang turbomolecular pump ay maaaring mapanatili ang mahusay na operasyon para sa mas mahabang panahon, na binabawasan ang bilang ng pagpapanatili at pagpapalit.
Gayunpaman, ang mga turbomolecular pump ay mayroon ding ilang mga limitasyon, tulad ng mababang kahusayan sa pumping para sa ilang mga gas.Halimbawa, ang mga turbomolecular na bomba ay may mababang kahusayan sa pagkuha para sa hydrogen, at ang mga turbomolecular na bomba ay mayroon ding ilang mga kinakailangan para sa presyon at temperatura ng gas.Samakatuwid, sa mga praktikal na aplikasyon, kinakailangang piliin ang uri at gumaganang mga parameter ng turbomolecular pump ayon sa partikular na sitwasyon upang matiyak ang normal at mahusay na operasyon nito.
5. Konklusyon:
Sa proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor, ang plasma etching machine ay isa sa napakahalagang kagamitan.Sa vacuum system ng plasma etching machine, ang turbomolecular pump, bilang pangunahing pump, ay gumaganap ng mahalagang papel sa pagkamit ng mataas na vacuum at stable na proseso ng pag-ukit ng plasma.Ang mga turbomolecular pump ay may mataas na bilis ng pumping, mataas na vacuum, mababang ingay at pag-optimize upang matugunan ang mas mataas na mga teknikal na kinakailangan.
Sa pangkalahatan, ang papel ng turbomolecular pump sa plasma etching machine ay hindi maaaring palitan.Sa industriya ng pagmamanupaktura ng semiconductor, ang turbomolecular pump ay naging isa sa mga kinakailangang kagamitan, na gumaganap ng isang mahalagang papel sa pagtiyak ng pagganap at katatagan ng plasma etching machine.Sa patuloy na pag-unlad at pag-unlad ng teknolohiya ng semiconductor, ang pangangailangan at saklaw ng paggamit ng mga turbomolecular pump ay patuloy na lalawak.Samakatuwid, ang mga tagagawa ng turbomolecular pump ay kailangang patuloy na mapabuti ang pagganap at kalidad ng produkto upang matugunan ang pangangailangan ng industriya ng pagmamanupaktura ng semiconductor para sa mas mataas na pagganap at mas matatag na kagamitan.
Paunawa sa copyright:
Ang GPM Intelligent Technology(Guangdong) Co., Ltd. ay nagtataguyod ng paggalang at pagprotekta sa mga karapatan sa intelektwal na ari-arian at ipinapahiwatig ang pinagmulan ng mga artikulo na may malinaw na pinagmulan.Kung nalaman mong may copyright o iba pang mga problema sa nilalaman ng website na ito, mangyaring makipag-ugnayan sa amin upang harapin ito.Impormasyon sa pakikipag-ugnayan:marketing01@gpmcn.com
Oras ng post: Okt-20-2023