In semiconductor hodierno industriam fabricandi, plasma etcher et antliae turbomoleculares duae magni ponderis technologiae clavis sunt.Plasma etcher instrumentum essentiale in elementis microelectronicis fabricandis est, dum turbomolecularis sentinatus pro vacuo magno et alto flare velocitatis destinatur.In hoc articulo tractamus partes et momentum soleatus turbomolculares in plasma etchers.
Content
1. Opus principium plasmatis etching machina
2. sentinam turbomolecularis principium operandi
3. Applicationem sentinam turbomolecularem in machina plasma etching
4. Commoda et limitationes soleatus turbomolecular
5. Conclusio
1. Principium operandi machinae plasmatis etching:
Plasma etcher instrumentum est ad materias expediendas utendo plasmate in cubiculo vacuo.Plasma est collectio particularum accusatorum a gas ionizatione productarum.Densitas et directio motus plasmatis ab summus frequentia camporum electrica vel magnetici coerceri potest.Per plasma engraving, plasma superficiei materiae operantis percutit eamque tollit vel erigit, structuram desideratam creans.
Sed magna moles gasi exhauriendi in plasmate etching generatur.Hi vapores exhaurientes includunt operantes materias et immunditias in gas, etc., quae per systema vacuum emittuntur.Ideo machina plasma etching opus efficiens vacui systematis debent ad stabilitatem ac diligentiam processus notificationis.
2. Principium sentinae turbomoleculares laborantis;
Soleatus turbomoleculares sunt una e communissimis ustis altae celeritatis flare soleatus in systematibus vacuis.Praecipuum velocitatis rotationis impulsores volitando operatur ut gas ex cubiculi vacuo sentinant et gasi in atmosphaeram expellant.In sentinam turbomolecularem, gas primum sentinam tergum intrat ubi comprimitur in regionem altam pressuram antequam ad sentinam turbomolecular mittitur.
In sentinam turbomolecularem, gas per impulsorem rotantem sentinatur, dum in sentina hypothetica gas in moleculas minores frangitur.Soleatus turbomoleculares vacuum altum praebere possunt, et eorum celeritas flare 500~6000 L/s potest.Nam plasma etching machinae quae altum vacuum requirunt, antonomasticae turbomolculares partes necessariae sunt.
3. Usus sentinae turbomolecularis in machina plasmatis etching:
Soleatus turbomoleculares late in machinis plasmatis etching.In vacuo systemate machinae plasmatis etching, sentinae turbomoleculares adhiberi solent ut sentinam principalem ad auxilium altum vacuum consequendum.Cum plasma superficiem ferit, magnam vim gasi exhauriendi producit, incluso materiae rudis residuae et productorum chemicorum.Hi vapores exhauriunt necesse est ut cito sentinentur e camera vacui et efficaciter ad stabilitatem et firmitatem processus plasmatis etingificationis.
In altum celeritatem flare et altum vacuum soleatus turbomoleculares eas facere soleatus ideales.In plasma etcher, sentina turbomolecularis plerumque in una sentina separata pro facili moderamine vacui et pressionis collocari solet.Eodem tempore, ut sentinam turbomolecularem tueatur, necesse est ut lavacrum sentinae mechanicae instituatur et pressionis reducendi valvae ante sentinam turbomolecularem ad nimiam pressionem et damnum sentinarum turbomolecularem vitandam.
4. Commoda et limitationes soleatus turbomoleculares;
Soleatus turbomoleculares multae utilitates habent, ut altum crepitum celeritatis, altum vacuum, gravem sonum, et altae constantiam.Excelsa celeritas flare sentinae turbomoleculares gradum vacuum augere potest, et simul flare tempus minuere potest, inde efficientiam producendi augere.Humilis sonitus et alta firmitas sentinae turbomoleculares est etiam una eius commoda, quae significat quod sentinam turbomolcularem operationem efficientem diutius temporis tenere posse, numerum conservationis et subrogationis minuere potest.
Sed turbomoleculares soleatus etiam aliquas limitationes habent, ut humilis flare ad quosdam vapores efficientiam.Exempli gratia, turbomoleculares soleatus habent efficientiam humilem extractionem pro hydrogenio, et turbomoleculares soleatus etiam quaedam requiruntur ad pressionem gas et tortor.In applicationibus igitur practicis, oportet eligere genus et operandi parametri sentinarum turbomolecularem secundum condicionem specificam, ut eius operationem normalem et efficientem curet.
5.Conclusio:
In vestibulum processus semiconductor, plasma etching apparatus unus ex instrumento maximus ipsum.In vacuo systemate machinae plasmatis etchingae, sentinae turbomoleculares, sicut praecipui sentinae, partes vitalis exercent in processu plasmatis attingendi altum vacuum et stabilem etingificationem.Turbomoleculares soleatus altam habent celeritatem flare, altum vacuum, gravem strepitum et ipsum ad altiora technicae requisita.
Communiter, munus sentinae turbomoleculares in machina plasmatis etching irreparabile est.In semiconductor fabricationis industriae, sentina turbomolecularis facta est una e necessariis instrumentis, quae magni ponderis munus agit in perficiendo et stabiliendo machinae machinae plasmatis.Cum continua evolutione et progressu technologiae semiconductoris, postulatio et ambitus usus turbomoleculares soleatus dilatare perget.Itaque artifices turbomoleculares sentinae opus continenter emendare productum peractionem et qualitatem ad occurrendum semiconductoris industriae fabricandae postulationi altioris operis et magis stabilis instrumenti.
Copyright notitiam:
GPM Technologia intelligentis (Guangdong) Co, Ltd. advocati observant et tutelam iurium intellectualium proprietatum et fontem articulorum manifestis fontibus indicat.Si inveneris in argumento huius paginae esse ius aut alia problemata, pete nobis ut cum ea agamus.Contactus notitia:marketing01@gpmcn.com
Post tempus: Oct-20-2023